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    低溫等離子體處理惡臭廢氣工程

    文章出處:網(wǎng)責(zé)任編輯:作者:人氣:-發(fā)表時(shí)間:2017-04-13 09:08:00【

    大氣污染是造成各類環(huán)境問題的主要原因之一

    ,氣態(tài)污染物通過擴(kuò)散
    、漂移將增加污染區(qū)域面積。目前常用的惡臭處理方法有吸附法
    、溶液吸收法、催化燃燒法
    、生物脫臭法等;這些傳統(tǒng)處理方法在工程應(yīng)用中均發(fā)現(xiàn)存在較大的局限性


    近年來,低溫等離子體在環(huán)境保護(hù)方面的研究不斷取得新進(jìn)展
    ,低溫等離子體技術(shù)理論研究上已經(jīng)被證實(shí)了是去除VOCs的有效方法之一
    ,同時(shí)在處理低濃度大氣量的惡臭氣體方面,低溫等離子體技術(shù)也表現(xiàn)出廣闊的應(yīng)用前景

     

    廢氣處理工程

     

    1

    、低溫等離子體的反應(yīng)機(jī)理

    等離子體是被稱作除固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)之外的第4種物質(zhì)存在形態(tài)
    。其由大量電子
    、離子、分子
    、中性原子
    、激發(fā)態(tài)原子、光子和自由基等組成
    ,總正負(fù)電荷數(shù)相等
    ,宏觀上呈電中性,故稱為等離子體
    ,但其表現(xiàn)出很高的化學(xué)活性
    。根據(jù)放電機(jī)制、(氣體)壓強(qiáng)范圍和電極結(jié)構(gòu)的不同
    ,產(chǎn)生低溫等離子體通常有以下方法:輝光放電
    、介電位壘放電
    、電暈放電、沿面放電
    、射頻放電
    、微波放電等。



    2

    、惡臭廢氣產(chǎn)生的途徑

    企業(yè)產(chǎn)品在生產(chǎn)過程中先后經(jīng)歷了球磨
    、制帶、印刷
    、水壓
    、切割、燒成
    、燒出等處理
    。由于原料中包含有酒精、甲苯
    、塑化劑
    、PET(聚對(duì)苯二甲酸乙二酯)、分散劑
    、PVB(聚乙烯醇縮丁醛)等有機(jī)物
    ,此部分物質(zhì)在印刷、燒成時(shí)有不同程度的揮發(fā)
    ,且由于燒成工段溫度高達(dá)280℃
    ,一些高沸點(diǎn)的焦油狀不明物質(zhì)也一并揮發(fā)出來,從而產(chǎn)生污染


    通過現(xiàn)場調(diào)研及檢測發(fā)現(xiàn)

    ,本項(xiàng)目中廢氣污染物質(zhì)量濃度較低,VOCs通常小于15mg/L
    ,但廢氣氣味易使人產(chǎn)生不快感
    ,因此本系統(tǒng)中廢氣屬于異味治理范疇。


    等離子體除臭系統(tǒng)工藝流程

    。整個(gè)廢氣處理系統(tǒng)設(shè)計(jì)風(fēng)量為60000m3/h
    ,為保證處理效果,收集的氣體將在末端進(jìn)入2個(gè)并聯(lián)的低溫等離子處理系統(tǒng)
    ,系統(tǒng)1設(shè)計(jì)為20000m3/h
    ,系統(tǒng)2設(shè)計(jì)為40000m3/h。在風(fēng)機(jī)的動(dòng)力作用下
    ,通過吸塵罩及公司原有管道將企業(yè)燒結(jié)工段的廢氣送入酸霧吸收塔內(nèi)
    ,與塔中的循環(huán)水接觸吸收。進(jìn)過預(yù)處理后的氣體匯聚后通過直徑1100mm的風(fēng)管進(jìn)入低溫等離子設(shè)備(設(shè)計(jì)風(fēng)量為每臺(tái)10000m3/h),經(jīng)過一系列復(fù)雜的物化反應(yīng)
    ,降解后的氣體再送入旋流板凈化塔



    整個(gè)
    廢氣處理系統(tǒng)由吸塵罩、酸霧凈化塔

    、低溫等離子
    、旋流板凈化塔和管道系統(tǒng)組成,在電氣系統(tǒng)控制下通過風(fēng)機(jī)進(jìn)行工作



    3

    、吸塵罩與管道系統(tǒng)

    吸塵罩的設(shè)計(jì)應(yīng)綜合考慮各塵源點(diǎn)廢氣的收集、設(shè)備的布局和操作方便
    ,集氣吸塵罩的使用效果越好意味著越能滿足生產(chǎn)和環(huán)保的要求



    工程中的吸塵罩與管道系統(tǒng)均采用鍍鋅鋼板制造,管道系統(tǒng)安置在主廠房樓頂

    ,每隔4~5m設(shè)置槽鋼支架。整個(gè)管路含控制閥
    、止回閥
    ,要求密封良好、無泄漏
    ,管壁厚度3mm

     

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